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第26回 RTRセミナー (川崎)

ドライLIB技術 ~最新動向・解析・製造技術~

参加希望者は下記フォームから申込ください。

後日、メールにて請求書を送付、御入金を確認次第、領収書を発行します。​​

日 時   :2026年2月13日(金) セミナー(10時30分~16時50分)、懇親会(17~19時)

 

場 所   : 株式会社島津製作所 Shimadzu Tokyo Innovation Plaza
    神奈川県川崎市川崎区殿町3丁目25-40  

    (京急大師線 小島新田駅より 徒歩12分)

    https://www.shimadzu.co.jp/research_and_development/tokyo-innovation-plaza/

定 員   : 100名

参加費:[セミナー]  9,900円(税込)

    [ 懇 親 会 ]  3,000円(税込)    同施設 4F ラウンジ(先着70名) 〆切 2月5(木)​​​​

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<プログラム> 

10:00~10:00   開場・受付

10:30~10:40   オープニング

10:40~12:00 LIBドライ技術の最新動向   ……………………………… (浜本伸夫)

12:00~13:00 昼食(弁当提供)

13:00~13:30 (仮)LIB用の金属薄膜搬送におけるシワ対策 …………… (日高剛氏)

13:30~14:10 ドライプロセスによる低環境負荷型LIB正極製造技術 …(獅野和幸氏)

14:10~14:50 (仮)ドライ電極の2軸混錬機による連続生産技術  ……… (吉川良平氏)

14:50~15:00   休憩

15:00~15:40 (仮)ドライ電極プロセスへのグラフェンの適用 …………(撹上健二氏)

15:40~16:00 (仮)ドライ電極関連の解析紹介(調整中) …………………  (島津製作所)

16:00~16:50  ラボツアー

17:00~19:00   懇親会 & ネットワーキング (希望者のみ)

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[規約] 

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送信が完了しました

©2023 アンダンテック/浜本伸夫

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